上海纳柔微电子科技有限公司于2021年4月15-17日参加第八届中国（上海）国际技术进出口交易会参展圆满成功！

中国（上海）国际技术进出口交易会少（上交会）是由商务部、科技部、国家知识产权局和上海市人民政府共同主办。本次上交会于2021年4月15-17日在上海世博展览馆举办，上海纳柔全程展示了柔性电子印刷和集成电路领域相关应用产品，为上交会增添了一道亮丽的景色。

本次展会上，上海纳柔展示的产品分为柔性电子印刷和集成电路制造两个部分：

柔性电子印刷：

特殊红外光源（NIR）：提供波峰在特殊波段的光源，快速干燥柔性基材上打印的材料，保持柔性基材不发生形变，广泛应用于柔性电子印刷、智能包装、传统印刷等行业；

脉冲紫外光（IPL）：利用瞬间释放的强脉冲光源，瞬间烧结微纳米级金属材料，同时可保持柔性基材低温，从而避免发生形变。

UVLED紫外光：可替代传统UV光源、车载镜头固化、OLED R2R产线、UV快速印刷等。

 

集成电路制造：

晶圆紫外线记忆清除设备：利用紫外线清除芯片和晶圆内的测试程序，可大规模应用于8寸/12寸晶圆。

晶圆光阻固化设备：提高光刻胶的耐热性和耐等离子性，可保持光刻胶的良好形状，广泛应用于半导体行业晶圆黄光部分。

 

现场样品展示